MicroChem光刻膠靈敏度能量

　　MicroChem光刻膠靈敏度能量
　　
　　MicroChem光刻膠成分分析：通過多種大型儀器聯(lián)用獲得相關譜圖，比對譜圖數(shù)據(jù)庫分析出組分及含量；
　　
　　MicroChem光刻膠配方還原：通過產(chǎn)品各組分組成及其比例，分析出產(chǎn)品基礎配方；
　　
　　MicroChem光刻膠異物診斷：就產(chǎn)品中的異物，確定其主要組成成分，分析物質(zhì)產(chǎn)生途徑；
　　
　　MicroChem光刻膠性能改進：針對產(chǎn)品常見的問題，通過分析基礎配方找出相關性能差的原因并提出改進建議。
　　
　　據(jù)光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類。
　　
　　正膠
　　
　　曝光前對顯影液不可溶，而曝光后變成了可溶的，能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
　　
　　優(yōu)點：分辨率高、對比度好。
　　
　　缺點：粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
　　
　　靈敏度：曝光區(qū)域光刻膠*溶解時所需的能量
　　
　　負膠
　　
　　與正膠反之。
　　
　　優(yōu)點：良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
　　
　　缺點：顯影時發(fā)生變形和膨脹，導致其分辨率。
　　
　　靈敏度：保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。