<abbr id="eeumm"></abbr>
<center id="eeumm"></center>
<abbr id="eeumm"><source id="eeumm"></source></abbr>
<rt id="eeumm"><acronym id="eeumm"></acronym></rt>
  • <rt id="eeumm"><tr id="eeumm"></tr></rt>
    <bdo id="eeumm"></bdo>
    <li id="eeumm"><input id="eeumm"></input></li>
    咨詢熱線

    18971121198

    當前位置:首頁   >  產品中心  >    >  原子層沉積系統  >  AT-410原子層沉積系統

    原子層沉積系統

    簡要描述:原子層沉積系統(ALD)是一種基于自限制表面化學反應的優良薄膜沉積技術。通過交替通入不同前驅體氣體,在基底表面逐層形成單原子層厚度的薄膜,具有原子級精度控制和三維共形性覆蓋的特點,尤其適用于復雜結構和高深寬比器件的均勻鍍膜。

    • 產品型號:AT-410
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-03-11
    • 訪  問  量:2377

    詳細介紹

           原子層沉積系統(Atomic Layer Deposition,簡稱ALD)是一種優良的薄膜沉積技術,通過在基底表面逐層沉積原子級厚度的材料來制備高質量、高均勻性的薄膜。它以其精準的厚度控制、優異的保形性(對復雜三維結構的覆蓋能力)和低溫沉積特性而著稱。


    一、原子層沉積系統技術參數:

    1.腔體材質:全鋁鋁質腔體;

    2.樣品臺尺寸:處理最大直徑4英寸樣品;

    3.基片加熱溫度:室溫~315℃±1℃;

    4.液體源:一路高蒸氣壓液體氧化劑(H2O或H2O2),3路固體或液體金屬源;

    5.可變過程壓力控制0.1至1.5Torr;

    6.ALD閥:Swagelok快速高溫ALD專用閥;

    7.載氣系統:N2,壓力30Psi;

    8.生長模式:連續和停留沉積模式任意選擇;

    9.控制系統:16位7英寸彩色觸摸屏PLC操作控制;

    10.4個世偉洛克熱敏ALD閥門;

    11.5個高溫劑量容積填充閥;

    12.帶輔助彎頭加熱器的保形加熱套,操作溫度室溫至150℃;

    13.帶閥門的50ccSS前體瓶,波紋管密封高溫兼容閥;

    14.Fujikin金屬密封,200sccmMFC流量質量控制器,用于N2或Ar吹掃流量控制;

    15.基于雙溫探頭的腔室加熱器控制系統和探頭故障保險;

    16.OEM 2級旋轉葉片泵,抽速18 cfm,極限真空3mtorr,包括Flomblin用于PFPE油;

    二、原子層沉積系統技術特點

    精準控制:薄膜厚度可精確至亞納米級(0.1 ?/cycle),重復性誤差<1%。

    高均勻性:在復雜3D結構(如納米線、多孔材料)表面實現均勻覆蓋。

    低溫工藝:部分機型支持室溫至300℃以上,范圍沉積,兼容熱敏感基材(如聚合物、生物材料)。

    前驅體兼容性:支持金屬有機化合物、鹵化物、等離子體增強(PEALD)等多種反應模式。

    原位監測:集成石英晶體微天平(QCM)、橢偏儀或光學反射儀,實時監控薄膜生長。

    三、原子層沉積系統應用領域

    半導體制造:高介電材料(HfO?、Al?O?)、晶體管柵極、DRAM電容薄膜。

    新能源:鋰離子電池電極包覆層、燃料電池催化劑涂層。

    光電子器件:OLED封裝層、光伏器件鈍化層。

    納米技術:量子點涂層、MEMS器件防水/防腐蝕膜。

    生物醫療:生物傳感器表面功能化、植入器械抗菌涂層。

    3.1半導體工業

            原子層沉積系統在半導體制造中應用廣泛,尤其是在集成電路(IC)和微電子器件的生產中。隨著器件尺寸不斷縮小至納米級,ALD能夠沉積超薄且均勻的高介電常數(high-k)材料(如HfO?、Al?O?)作為柵極絕緣層,替代傳統的SiO?。此外,它還用于沉積金屬(如鎢、銅)作為導電層或阻擋層,確保器件性能的穩定性和可靠性。

    3.2光電子與顯示技術

           原子層沉積系統在光電子領域,ALD被用于制備光學薄膜(如抗反射涂層)和透明導電氧化物(如ZnO、ITO),廣泛應用于太陽能電池、LED和OLED顯示屏。例如,ALD可以沉積鈍化層(如Al?O?)以提高太陽能電池的效率,或制備保護層延長器件壽命。

    3.3能源存儲與轉換

           原子層沉積系統在電池和燃料電池領域也有重要應用。例如,在鋰離子電池中,ALD可用于沉積電極表面的保護層,防止電解質腐蝕并提高循環穩定性。在催化劑制備中,ALD能夠精確調控催化劑顆粒的大小和分布,提升能源轉換效率。

    3.4生物醫學

           原子層沉積系統技術可用于制備生物相容性涂層,應用于醫療器械(如植入物、支架)的表面改性。例如,通過沉積TiO?或ZrO?薄膜,可以增強器械的耐腐蝕性和生物相容性,同時減少感染風險。

    3.5納米技術

           原子層沉積系統是制備納米結構(如納米管、納米線)和二維材料(如石墨烯、過渡金屬二硫化物)的關鍵技術。它能夠實現原子級精度的表面改性,廣泛應用于傳感器、納米電子器件和量子計算研究。

    3.6其他工業應用

    防護涂層:ALD可沉積耐腐蝕、耐磨損的薄膜,用于航空航天、汽車零件等領域。

    MEMS/NEMS:在微納機電系統(MEMS/NEMS)中,ALD用于制備功能層或犧牲層。

    四、目前可以沉積的材料包括:

    1)氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2

    2)氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN

    3)氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2

    4)金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni

    5)碳化物: TiC, NbC, TaC  

    6)復合結構材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx

    7)硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS





    產品咨詢

    留言框

    • 產品:

    • 您的單位:

    • 您的姓名:

    • 聯系電話:

    • 常用郵箱:

    • 省份:

    • 詳細地址:

    • 補充說明:

    • 驗證碼:

      請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
    邁可諾技術有限公司
    • 聯系人:鄧經理
    • 地址:洪山區珞獅南路147號未來城A棟
    • 郵箱:sales@mycroinc.com
    • 傳真:
    關注我們

    歡迎您關注我們的微信公眾號了解更多信息

    掃一掃
    關注我們
    版權所有©2025邁可諾技術有限公司All Rights Reserved    備案號:    sitemap.xml    總訪問量:539566
    管理登陸    技術支持:化工儀器網    
    久久国产精品范冰啊| 久久精品无码一区二区日韩AV| 久久这里只精品国产免费10| 精品熟女碰碰人人a久久| 亚洲狠狠久久综合一区77777| 国内高清久久久久久| 人妻少妇精品久久| 久久精品国产乱子伦| 婷婷五月深深久久精品| 精品久久久久久久| 久久久久国产精品麻豆AR影院 | 久久AV高潮AV无码AV| 久久精品国产亚洲香蕉| 伊人久久精品亚洲午夜| 亚洲国产成人精品91久久久 | 久久精品99国产精品日本| 久久久受www免费人成| 四虎影视久久久免费观看| 精品伊人久久香线蕉| 中文国产成人精品久久不卡| 91精品国产91热久久久久福利| 久久99精品一区二区三区| 亚洲国产精品高清久久久| 亚洲精品无码久久久久去q| 久久天天日天天操综合伊人av| 精品久久久久久99人妻| 亚洲国产综合久久天堂| 日本国产精品久久| 午夜精品久久久久久| 午夜精品久久久久蜜桃| 国产精品美女久久久久av超清 | 99久久99这里只有免费费精品| 久久超碰97人人做人人爱| 久久无码人妻一区二区三区| 午夜不卡久久精品无码免费| 久久久国产精品一区二区18禁| 久久国产视频精品| 久久一日本道色综合久| 色婷婷综合久久久久中文| 久久久一本精品99久久精品66| 久久夜色精品国产噜噜噜亚洲AV|