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    貴金屬XRF光譜儀

    簡(jiǎn)要描述:XRF光譜儀– QualiX- P1非常適合貴金屬分析,是電子/電器和裝飾品加工的理想選擇。

    • 產(chǎn)品型號(hào):QualiX-P1
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-17
    • 訪  問(wèn)  量:2010

    詳細(xì)介紹

    XRF光譜儀– QualiX- P1非常適合貴金屬分析,是電子/電器和裝飾品加工的理想選擇。
    分析儀的兩個(gè)主要應(yīng)用是合金測(cè)定/化學(xué)分析,土壤分析和礦物分析
    合金測(cè)定/化學(xué)分析
    XRF分析儀在確定所檢查的合金以及對(duì)樣品的構(gòu)成元素進(jìn)行化學(xué)分析時(shí)可發(fā)揮*大的潛力。樣品制備中應(yīng)清除所有灰塵,鐵銹,油脂等。如果樣品已經(jīng)清潔,則無(wú)需進(jìn)行制備,不干凈的樣品將對(duì)分析產(chǎn)生重大影響。有許多因素可能會(huì)導(dǎo)致合金樣品分析錯(cuò)誤,例如樣品大小或清潔度等因素會(huì)干擾讀數(shù)。這些因素的解決方案可以很簡(jiǎn)單,例如對(duì)樣品表面進(jìn)行涂漆或涂層,或者如果樣品尺寸太小,可以同時(shí)使用多個(gè)樣品。
     
    性能:

     

    • 超高精度,*高性能
    • 電冷卻Si-Pin半導(dǎo)體探測(cè)器代替液氮冷卻探測(cè)器
    • 專門開發(fā)的軟件,界面友好
    • 自由選擇濾鏡和準(zhǔn)直儀自動(dòng)切換
    • 多變量非線性回歸程序;獨(dú)立矩陣效應(yīng)校正模型
    • 三重安全保護(hù)模式;鋼材結(jié)構(gòu)優(yōu)雅時(shí)尚
    • 手動(dòng)打開和關(guān)閉樣品室,安全便捷
    • 信噪增強(qiáng)器(SNE ),大大提高了測(cè)量的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性
    • 內(nèi)置高分辨率攝像頭,方便用戶隨時(shí)分析樣品

     工作原理

    當(dāng)某些元素受到X射線轟擊時(shí),會(huì)發(fā)射出電子,從而使能量從外殼中釋放出來(lái)。電子可以從原子的內(nèi)殼中彈出,從而使它們從更高的層次下降。當(dāng)此事件發(fā)生時(shí),稱為特征X射線。


    X射線熒光過(guò)程
    a致輻射的x射線和特征性x射線是由電子束產(chǎn)生的,這是由XRF分析儀用X射線轟擊樣品的原子而發(fā)生的。每個(gè)電子躍遷都發(fā)射特征X射線(熒光光子),其能量等于特定元素在兩個(gè)殼之間的能量差。電子在相同元素的所有原子中具有相同的固定能級(jí),每個(gè)類似的電子躍遷均發(fā)射相同離散能量的X射線。因此,當(dāng)電子從同一元素的原子中射出時(shí),發(fā)出的X射線是相同的。

    技術(shù)指標(biāo):
    可測(cè)元素      鉀(K?鈾(U 
    同時(shí)元素      同時(shí)分析24個(gè)元素
    測(cè)量對(duì)象      粉末,固體和液體
    測(cè)試時(shí)間      60s-300s
    能量分辨率   155±5)電子伏特
    分析精度      0.05
    管電壓        5kV?50kV
    管電流        50µA?1000µA
    檢出限        1 ppm
    環(huán)境溫度范圍  15-30°攝氏度
    相對(duì)濕度      35?70
    重量          30公斤
    工作電壓      交流110v / 220v
    箱體尺寸      310(寬)* 300(深)* 100mm(高)

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