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詳細介紹
光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發中心和大學中的微機開發。操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學/高速通信組件中。
二、技術參數:
1、目標分離:15?75毫米;
2、總放大倍率:100倍;
3、觀察照明器:紅色LED(λ= 633 nm);
4、X,Y平臺移動范圍:±5毫米;
5、θ調整:±5°
6、主體電源和水銀燈:交流100V 50 / 60Hz 15A
7、真空源:低于21.3 Kpa(大氣壓為-80 Kpa)
8、鏡片:積分鏡
9、汞燈:250W超高壓蒸汽汞燈
10、有效接觸面積:大φ100毫米
11、強度分布:±5%以下
12、照度:20 mW / cm 2 (405納米)
13、曝光時間控制:數字計時器和旋轉螺線管
14、汞燈照明裝置:交流110V
三、產品特點:
經濟,緊湊和高級性能
在視場中查看兩個對準標記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器
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