韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。

產(chǎn)品型號(hào)：L-100和M-100
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-05-17
訪(fǎng) 問(wèn) 量：1859

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掩膜曝光光刻機(jī)

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L-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。L-100專(zhuān)為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類(lèi)型	PLC手動(dòng)控制系統(tǒng)	波長(zhǎng)	365 nm
掩膜版尺寸	5英寸	紫外光強(qiáng)度	20 ?
基片尺寸	4英寸晶圓	紫外線(xiàn)光束均勻度	≤3 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟
對(duì)準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
		選配項(xiàng)	Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

M-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M-100專(zhuān)為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)350W的紫外線(xiàn)光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類(lèi)型	PLC手動(dòng)控制系統(tǒng)	波長(zhǎng)	350 ~ 450 nm
掩膜版尺寸	最大5*5英寸	紫外光強(qiáng)度	15 ~ 25/ ?
基片尺寸	4英寸晶圓	紫外線(xiàn)光束均勻度	3 ~ 5 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟/接近
對(duì)準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
紫外燈和電源	350W	選配項(xiàng)	Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

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